应核科学与技术学院王铁山教授邀请，新加坡国立大学J.A. van Kan博士将于4月15日-4月21日前来我校访问并作学术报告。欢迎全校广大师生参加。
题目：Focused MeV Proton Beam Applications in Nano-Lithography and Nano-Imaging
时间：2012年4月17日（周二）下午 14：30
地点：医学校区核科学与技术学院二楼222教室
报告摘要:
A second generation proton beam writing line has been installed at the Centre for Ion Beam Applications at the National University of Singapore. Here we introduce this new system for proton beam writing (PBW), this system is able to focus MeV proton beams down to a spot size of 20 nm. PBW is a promising technique for proximity free structuring of high aspect ratio, high density 3D nano structures. The latest achievements in PBW of high aspect ratio metallic nanowires will be presented. The fabrication of molds for nano fluidic lab on chip fabrication for single molecule studies like DNA will be discussed. Finally PBW and Ni electroplating will be introduced as a platform technique for the fabrication of 3D Nano Imprint Lithography (NIL).
Dr. Jeroen Anton van Kan简介：
J.A. van Kan博士1992年毕业于荷兰阿姆斯特丹大学获实验物理学硕士学位，1996年毕业于荷兰阿姆斯特丹自由大学获实验物理学博士学位。1997至今工作于新加坡国立大学物理学部。主要从事加速器离子源、质子束刻写、纳米科学与技术、分子电子学及分子器件、毫微光刻和纳米压印等领域的研究。据Scopus统计，J.A. van Kan博士发表科技论文121篇(近五年，50篇)，累计引用次数超过1500次，H-因子为21。
核科学与技术学院
二〇一二年四月十五日